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动态对焦
Allegro Dynamic Focus Tracking
动态对焦
基片经过高温工艺后产生的较大翘曲或较小的工艺窗口都会影响激光刻划结果,降低工艺稳定性和模组效率。动态对焦系统在划线时将激光束保持在模组的焦平面内。由此,采用动态对焦系统,不增加系统复杂性,但可对翘曲较大或工艺窗口较小的模组取得最优的刻划效果。

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