稳固的合作伙伴关系与高效的工艺集成能力,正成为推动玻璃基板技术在半导体封装领域实现规模化应用的核心要素。LPKF 激光诱导深度蚀刻(LIDE)技术及其构建的完整生态系统,为从技术研发到大规模量产的成功过渡提供坚实保障。
Icon: Reading time2 Min
LIDE技术提供无微裂隙、高精度的玻璃通孔加工能力,为半导体大规模制造提供可靠、可扩展的玻璃基板解决方案。
Icon: Reading time2 Min
LIDE技术实现了高精度且无微裂隙的玻璃微结构加工,突破了传统玻璃通孔(TGV)加工的局限,为半导体、微流控、MEMS及光子学等领域带来了新可能。
Icon: Reading time2 Min
LPKF激光诱导深度蚀刻(LIDE)技术凭借经过产业验证的高精度加工能力,弥补了从样品制作到大规模TGV量产的断层,为客户提供可扩展、无缺陷的玻璃微结构加工解决方案。
Icon: Reading time3 Min
LPKF激光诱导深度蚀刻(LIDE)技术,为先进半导体制造提供可扩展、无微裂纹的高精度玻璃通孔(TGV)加工能力。
Icon: Reading time3 Min
产品快捷查询
产品快捷查询